Хафнијум тетрахлорид | HfCl4 прах | CAS 13499-05-3 | фабричка цена

Кратак опис:

Хафнијум тетрахлорид има важне примене као прекурсор хафнијум оксида, катализатор за органску синтезу, нуклеарне примене и таложење танких филмова, истичући његову свестраност и значај у различитим технолошким областима.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Пошаљите нам имејл

Детаљи производа

Ознаке производа

Опис производа

Кратак увод

Назив производа: Хафнијум тетрахлорид
CAS број: 13499-05-3
Формула једињења: HfCl4
Молекуларна тежина: 320,3
Изглед: Бели прах

Спецификација

Ставка	Спецификација
Изглед	Бели прах
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ппм
Fe	≤40 ппм
Ti	≤20 ппм
Si	≤40 ппм
Mg	≤20 ппм
Cr	≤20 ппм
Ni	≤25 ппм
U	≤5 ппм
Al	≤60 ппм

Примена

Прекурсор хафнијум-диоксидаХафнијум тетрахлорид се првенствено користи као прекурсор за производњу хафнијум диоксида (HfO2), материјала са одличним диелектричним својствима. HfO2 се широко користи у диелектричним применама са високим k за транзисторе и кондензаторе у полупроводничкој индустрији. HfCl4 је неопходан у производњи напредних електронских уређаја због своје способности да формира танке филмове хафнијум диоксида.
Катализатор органске синтезеХафнијум тетрахлорид се може користити као катализатор за различите реакције органске синтезе, посебно полимеризацију олефина. Његова својства Луисове киселине помажу у формирању активних интермедијера, чиме се побољшава ефикасност хемијских реакција. Ова примена је вредна у производњи полимера и других органских једињења у хемијској индустрији.
Нуклеарна применаЗбог високог попречног пресека апсорпције неутрона, хафнијум тетрахлорид се широко користи у нуклеарним применама, посебно у контролним шипкама нуклеарних реактора. Хафнијум може ефикасно да апсорбује неутроне, па је погодан материјал за регулисање процеса фисије, што помаже у побољшању безбедности и ефикасности производње нуклеарне енергије.
Таложење танког филмаХафнијум тетрахлорид се користи у процесима хемијског таложења из парне фазе (CVD) за формирање танких филмова материјала на бази хафнијума. Ови филмови су неопходни у разним применама, укључујући микроелектронику, оптику и заштитне премазе. Могућност таложења униформних, висококвалитетних филмова чини HfCl4 вредним у напредним производним процесима.