Хафниум тетрахлорид | Хфцл4 прах | ЦАС 13499-05-3 | Фабричка цена

Хафниум тетрахлорид | Хфцл4 прах | ЦАС 13499-05-3 | Слика фабричке цене

Кратак опис:

Хафниум тетраклорид има важне примене као прекурсор хафнијум оксида, катализатор органске синтезе, нуклеарне апликације и танкоме фолије, истичући његову свестраност и значај у различитим технолошким пољима.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Пошаљите нам е-пошту

Детаљи производа

Ознаке производа

Опис производа

Кратак увод

Назив производа: Хафниум тетраклорид
ЦАС бр.: 13499-05-3
Сликанска формула: ХФЦл4
Молекуларна тежина: 320.3
Изглед: бели прах

Спецификација

Артикал	Спецификација
Изглед	Бели прах
Хфцл4 + зрцл4	≥99,9%
Zr	≤200ппм
Fe	≤40ппм
Ti	≤20ппм
Si	≤40ппм
Mg	≤20ппм
Cr	≤20ппм
Ni	≤25ппм
U	≤5ппм
Al	≤60ппм

Примена

Прекурсор хафнијум диоксида: Хафниум тетраклорид се пре свега користи као прекурсор за производњу хафнијум-диоксида (ХФО2), материјала са одличним диелектричним својствима. ХФО2 се широко користи у хигх-к диелектричним апликацијама за транзисторе и кондензатори у полуводичкој индустрији. ХФЦл4 је од суштинске важности у производњи напредних електронских уређаја због своје способности да формирају танке филмове хафнијум диоксида.
Катализатор органске синтезе: Хафнијум тетраклорид може се користити као катализатор за разне реакције органске синтезе, посебно олефин полимеризацији. Његова својства Левисове киселине помажу у формирању активних интермедијара, на тај начин побољшање ефикасности хемијских реакција. Ова апликација је вредна у производњи полимера и других органских једињења у хемијској индустрији.
Нуклеарна примена: Због свог високог пресека за апсорпцију неутрона, хафнијум тетраклорид се широко користи у нуклеарним апликацијама, посебно у контролним шипкама нуклеарних реактора. Хафниум може ефикасно да апсорбује неутроне, тако да је то одговарајући материјал за регулисање процеса фисије, што помаже у побољшању безбедности и ефикасности генерисања нуклеарне енергије.
Танки таложење филма: Хафниум тетраклорид се користи у процесима омаловажавања хемијских парова (ЦВД) да би се формирао танки филмови материјала на бази хафнијума. Ови филмови су од суштинског значаја у разним апликацијама, укључујући микроелектронику, оптику и заштитну премазе. Способност депоновања у униформи, висококвалитетни филмови чине ХФЦл4 вриједним у напредним производним процесима.